ウシオ電機、蘭Royal Philips Electronics社、および独JENOPTIK Laser, Optik, Systeme社の3社は、札幌で開催された「2007年インターナショナルEUVLシンポジウム」において、次世代半導体の露光に必要なEUV（極端紫外光）光源を共同開発するため業務提携することを発表した。

　これまで、ウシオ電機とJENOPTIKが50％ずつ出資する蘭XTREME technologies社と、Philipsの子会社である独Philips Extreme UV社の2社は、DPP（Discharge Produced Plasma:放電生成プラズマ）方式によるEUV光源の開発をそれぞれ行ってきた。両社ともすでに研究用EUV光源を出荷し、2006年から2007年にかけては300mmウェーハ対応のフルフィールド露光機に搭載可能なα機を出荷していた。

　3社は、今回の業務提携によってEUV露光の開発を加速させ、ArF液浸の後継技術としての実用化を目指す。実績のあるXTREME technologiesとPhilips Extreme UVが提携することでβ機（量産試作用光源）の開発を推進し、実用EUV光源の製品化を図るという。