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ASML、「リソグラフィ市場は2012年に100億ユーロ」
[issued: 2007.11.08]
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蘭ASML社は、アナリストおよび投資家との会合において、リソグラフィ市場の年間成長率が平均13％であることに沿って、世界の半導体リソグラフィ市場が2006年の50億ユーロから2012年には100億ユーロ以上に成長する可能性があるとの認識を示した。同予測は、業界アナリストやユーザーの技術ノードロードマップによる半導体市場予測に基づいており、今後次世代の半導体を製造するために必要となるリソグラフィの資本集約度の上昇予想も考慮しているという。
なお、ASMLは市場アナリストによる半導体市場成長の予測とあわせ、2010年における同社売上高が50億ユーロに達する可能性があるとした。これは、主に液浸露光装置の加速的な成功によるものと予測されるが、同社では今後10年間、EUV技術、計算機リソグラフィ、ダブルパターニング技術といった複数のリソグラフィ技術がムーアの法則を順調に押し上げて半導体業界の成長を支えていくだろうとした。
なお、ASMLは市場アナリストによる半導体市場成長の予測とあわせ、2010年における同社売上高が50億ユーロに達する可能性があるとした。これは、主に液浸露光装置の加速的な成功によるものと予測されるが、同社では今後10年間、EUV技術、計算機リソグラフィ、ダブルパターニング技術といった複数のリソグラフィ技術がムーアの法則を順調に押し上げて半導体業界の成長を支えていくだろうとした。
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