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大日本スクリーン、プロセス技術センターを開設
[issued: 2008.03.19]
今回開設する「プロセス技術センター」は、プロセス開発および装置開発を行う専用のクリーンルームと各種実験装置を備えるなど、プロセスの本質に迫る評価・解析のための小規模な実験から、プロセスの安定性を実証する300mmウェーハの連続処理に至るまで、次世代半導体プロセスの確立に向けた幅広い研究開発が可能な施設となっている。また、デバイスメーカーや研究機関、薬品、部材メーカーとの共同開発やプロセスデモンストレーションを行う環境も充実させるなど、先進のプロセス開発のさらなる効率化、迅速化を実現するという。
同センターは、当社半導体洗浄装置の製造拠点「Fab.FC-1、FC-2」に隣接しており、技術開発と生産技術の情報交換を緊密かつ迅速に行え、最先端技術を生産装置へタイムリーに導入できるという。同社は、今回のプロセス技術センターの開設により、半導体の技術革新や顧客の多彩なニーズへの対応力を強化し、顧客満足度のさらなる向上を目指すとしている。
<プロセス技術センターの概要>
名称:彦根地区事業所「プロセス技術センター」
所在地:滋賀県彦根市高宮町480-1
敷地面積:約6600平方メートル
建築面積:約3900平方メートル
延べ床面積:約1万1200平方メートル
構造:鉄筋コンクリート造り 3階建て
総経費:約80億円
着工:2007年4月
開設:2008年4月
主な用途:半導体製造プロセスの研究・装置開発
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