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• 2008年上半期の半導体メーカーランキング、 ——IC Insightsが発表
• 450mm対応装置開発を大手半導体メーカーが支援する可能性！？
• 2008年Q3のDRAM市場が再び下降の兆し、回復は2009年後半か ——iSuppli社の報告から
• エルピーダと中国投資会社SVG、 中国蘇州にDRAM合弁会社を設立することで合意
• 太陽光発電：5年後にグリッド電力と競合へ
• メモリーへのCu配線の導入
• 最大手3社がごり押しする450mm大口径化
• SOIウェーハ市場、2012年までに11億ドルに達するとの予測 ——VLSI Researchの報告から
• 3次元配線が上昇気流に
• 「半導体製造におけるアウトソーシングは必要不可欠」 ——Gartnerが報告

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Semiconductor International日本版
第20回テクニカルセミナー
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  第19回テクニカルセミナー
  「32nmを描くリソグラフィの選択肢
  〜Double Patterningか？直描か？」
  
  セミナー関連記事はこちらから
  
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  「DRAM 1ドル時代の量産技術
  〜装置とプロセスをどう制御するのか？〜」
  
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  〜SiP、TSVでイニシアチブを握れ〜」
  
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金属材料のマグネトロンスパッタリングにおけるアーク抑制
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  －モノづくりにおける意匠設計とそのデータ活用－
  2008年 07月31日ー2007年07月31日
  虎ノ門パストラルホテル（東京）
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  2008年 07月30日ー2007年08月01日
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