米KLA-Tencor社は、新型オーバレイ計測システム「Archer 200」の提供を開始したと発表した。新しく搭載された光学系により、32nm世代で採用されるダブルパターニングに求められる厳しいオーバレイ要求を満たすよう性能が大幅に改善されているという。また、32nm世代以降の計測要求に対応すべく、スキャトロメトリ計測ヘッドを将来的に追加できる拡張性を備えている。Archer 200では前世代のArcher100で導入されたターゲット「マイクロAIM (μAIM(TM))」を引き続きサポートする。

　KLA-Tencor オーバレイ計測グループ担当副社長兼事業部長Ofer Greenberger氏は「32nmのオーバレイバジェットは、特にダブルパターニングでは限界に達している。半導体メーカーはオーバレイ精度計測装置の精度と速度の両方を向上させたいと考えている。Archer 200では、光学イメージング技術の性能を強化した。大手露光機メーカーとの密接な関係により、オーバレイの高次補正における重要な追加機能を実現した。これによって、より高度なスキャナ補正が可能になり、半導体メーカーのダブルパターニング導入を支援できる」と述べている。

　Archer 200では、光学設計が大幅に改善された。これにより、装置間マッチング（機差）が50％以上改善され、生産性は前世代のArcherに比べて25％向上する。マッチングは、異なる装置間で同一のレイヤアライメントを実質的に達成する必要があるため、オーバレイ計測では重要な指標となっているという。

光学系の改善項目は、
１）より多くの光量を通すように再設計された光路により、高速測定を実現しスループットが向上、
2）新しいカメラ管理アルゴリズムにより、システム操作が速くなり、ノイズが低減されると同時に、スループットと精度も向上、
などを含むとしている。