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  • SEMI Views & News

    -6月24日(水)~26日(金) 幕張メッセ- PVJapanは、太陽光発電の普及活動を続けてきた太陽光発電協会(JPEA)と、ハイテク産業の製造装置・材料の国際工業会SEMIが協力し、2008年に誕生した太陽光発電の総合イベントです

太陽光発電技術レポート

  • 太陽光発電技術(Photovoltaic)は、文字通りサンサンと太陽に照らされ、持続的な拡大が期待できる新市場として注目されている。また、太陽光発電技術、太陽電池製造技術は、半導体・FPD製造技術である、長年培われたSi形成技術や薄膜形成技術を応用できる...

SIJ Information

  • Digital Editionのサンプル版を公開中!

    2008年7月号から読者申込を開始いたしました。「Digital Edition」のサンプル版を公開しております。Digital Editionは、毎月発行される弊誌を丸ごとデジタルデータにし、パソコンなどから自由にご覧いただけるサービスです。

TOP STORY

先端インターコネクト技術 ~Cu/Low-k多層配線およびTSV/SiPで広がる半導体の可能性

ロジックの多層配線技術は、デュアルダマシンプロセスを採用し、Low-k層間絶縁膜さらには空孔率の高いULK膜を導入、Cu配線の信頼性を向上しながら微細化を続けている。





CURRENT ISSUE

2009年5月号

32nm以降に微細化するには、プラグフィル工程などでは従来のPNL(Pulsed Nucleation Layer)方式は要求される抵抗値の性能を提供できない。W(タングステン)の核形成とCVDフィルの開発によりALD方式のWを2Xnm形状まで延長することができ、要求される抵抗値を実現することができる。



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アドバンスドエナジージャパン株式会社
金属材料のマグネトロンスパッタリングにおけるアーク抑制
JPN-ArcSputmetal-270-01.pdf
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