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Cover Story
ダブルパターニングで液浸リソグラフィの延命を図る
高開口数(NA)の液浸リソグラフィが思ったより期待できない現状で、半導体業界は、ダブルパターニングがウェーハ・ベースの光リソグラフィを延命する方策になるとして、この話題で騒然としている。
Features
ArFリソグラフィでhp45nmを実現する
Mark Slezak
Ramakrishnan Ayothi
Zhi Liu
米JSR Micro社
www.jsrmicro.com
JSR
www.jsr.co.jp
三次元統合を可能にするディープSiエッチング
Dave Thomas
米Aviza Technology社
www.avizatechnology.com
Industry Watch
半導体産業は大きな方向修正を迫られているのか
Moshe Handelsman
米Advanced Forecasting社
社長
www.adv-forecast.com
FPD Technology Watch
2007年のFPD市場を展望する-FPD産業の動向は、2006年同様フラットTVに注目-
李 根秀
アイサプライ・ジャパン
主席アナリスト
www.isuppli.co.jp
SI Japan テクニカルセミナー
SI Japan RESOURCE CENTER
アドバンスドエナジージャパン株式会社
金属材料のマグネトロンスパッタリングにおけるアーク抑制
JPN-ArcSputmetal-270-01.pdf
金属材料のマグネトロンスパッタリングにおけるアーク抑制
JPN-ArcSputmetal-270-01.pdf
EVENTS
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Industrial Design セミナー
－モノづくりにおける意匠設計とそのデータ活用－
2008年07月31日ー2007年07月31日
虎ノ門パストラルホテル（東京） -
第19回マイクロマシン/MEMS展
2008年07月30日ー2007年08月01日
東京ビックサイト（東京） -
PVJapan 2008
2008年07月30日ー2007年08月01日
東京ビックサイト（東京）
