Semiconductor International Japan

Cover Story

DFMコストの決め手は計算機リソグラフィ

ハーフピッチ（hp）45nmおよび32nm世代の先端プロセスの製造を実現するには、新たな戦略が必要だ。その中でも計算機リソグラフィ技術の導入は設計フローに新しいソリューションを提供することになるだろう。

Editorial

協働と教育、そしていつも精神論で終わってしまう

経済学者が語る半導体産業の成長性

Features

デュアルマグネットリボンビームでイオン注入装置のパーティクル制御を実現

Industry Watch

遅れをとっていた日本のEUVリソ開発に「光」

Ryoichi Tetsui

News Clip

価格下落で売上高の減少に向かう半導体市場

Hynix、IMECの32nm以降CMOS研究開発プログラムに参加

VLSI Research、2006年装置サブシステムの上位10社を発表、Carl Zeissが首位、日本からは荏原が9位、堀場が10位にランクイン

ソニー、CMOSセンサーの生産能力を増強

京大ら、複数枚SiCウェーハの一括処理技術を共同開発

ルネサス、32nm以降のSRAM実現に向けた動作マージン拡大技術を開発

東芝、三次元構造を採用したNAND型フラッシュメモリー技術を開発

Technology News

配線技術にはCNTが魅力的

認められつつあるインバースリソグラフィ技術

液浸関連の欠陥を排除

Heイオン顕微鏡がSEMを補完

発展を遂げるPoP技術

Advanced Research

IMEC: MuGFETからCNTへ

Industry Perspective

敵を知り、己を知れば・・・

Mems Innovator

第18回マイクロマシン/MEMS展

－MEMS展MEMS、ナノテク、超精密・微細加工、バイオに関する国際展示会－

　2007年7月25日（水）から7月27日（金）までの3日間、東京ビッグサイト（東京国際展示場）の西3・西4ホールにて、マイクロマシンセンター主催の「第18回マイクロマシン/MEMS展－MEMS、ナノテク、超精密・微細加工、バイオに関する国際展示会－」が開催される。MEMS関連の展示会としてさらなる...