液浸露光技術で使用したタンデムステージをS310Fに搭載
20％生産性向上と高アライメント精度を実現

　NSR-S310Fは、65ナノメートル以下のデバイス量産に対応した最先端ArFスキャナです。同装置は、ニコンの独自技術としてArF液浸スキャナで実績のあるタンデムステージを採用することによりスループットを増加させるとともに、アライメント精度を向上させ、長期安定性を高めています。スループットは当社従来機種比で20%向上し、毎時174枚を達成、CoO（Cost of Ownership）を大幅に削減しました。また、タンデムステージの採用によりアライメント精度も7ナノメートル以下にまで改善されました。

　NA0.92の投影光学系と照明系により、優れた結像性能とウェーハ全面にわたる高度な線幅制御を実現し、収差量およびフレア量とも業界での最小値を達成しています。

　ニコン独自の偏光照明POLANO（第4世代）とオプションの赤外線収差制御（IAC）※により、さらに優れた結像性能が得られます。
※IAC （Infrared Aberration Control）
新機種スキャナのリリースにより、ニコンはスキャナ全機種を新世代タンデムステージプラットフォームへと移行して高い生産性と精度を実現します。今年2月に世界初のNA1.30のArF液浸スキャナを出荷したこととあわせ、優位性をさらに進展させたと認識しています。

1.ニコンの独自技術であるタンデムステージを採用し、高スループット、高精度を実現
　ニコン独自のタンデムステージは、露光ステージと計測ステージから構成されており、毎時174枚以上という高スループットを実現、高頻度で行われるキャリブレーションにより装置安定性も高まります。

2.卓越した結像性能
　ニコン独自の投影光学系と照明系により、優れた結像性能が得られ、フレアも少なく温度変化にも影響を受けにくい光学系を構築しており、更にNSR-S310Fに標準装備されている偏光照明POLANOとオプションの赤外線収差制御（IAC）により、結像性能をより高めることに成功いたしました。

3.優位性を持つCoO（Cost of Ownership）
　量産で実績を積んだ結像技術と高スループットのタンデムステージが、CoOの削減に寄与します。

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