2008年1月号


Cover Story

High-k/メタルゲートが 量産へ一歩前進

High-kゲート絶縁膜とメタルゲートの導入が45nmロジックから始まる。これらのHigh-k/メタルゲート技術は、チャージトラップ型のフラッシュメモリーに対しても高いメタルの仕事係数を得られるため有効だとされている。


Industry Perspective

New Products

SI Japan RESOURCE CENTER

アドバンスドエナジージャパン株式会社
金属材料のマグネトロンスパッタリングにおけるアーク抑制
JPN-ArcSputmetal-270-01.pdf
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