Semiconductor International テクニカルセミナー


Semiconductor International 日本版 第20回テクニカルセミナー

『MEMS ルネッサンス』

日時:
2008年9月9日(火)
場所:
〒100-0005 東京都千代田区丸の内1-7-12 サピアタワー6F
東京ステーションコンファレンス (地図
JR東京駅新幹線専用改札口(日本橋口)から徒歩1分、八重洲北口改札口から2分


Semiconductor International 日本版 第19回テクニカルセミナー

『32nmを描くリソグラフィの選択肢~Double Patterningか?直描か?』

【終了しました】
日時:
2008年7月23日(水)
場所:
〒100-0005 東京都千代田区丸の内1-7-12 サピアタワー6F
東京ステーションコンファレンス (地図
JR東京駅新幹線専用改札口(日本橋口)から徒歩1分、八重洲北口改札口から2分


Semiconductor International 日本版 第18回テクニカルセミナー

『DRAM 1ドル時代の量産技術~装置とプロセスをどう制御するのか?~』

【終了しました】
日時:
2008年6月5日(木)
場所:
〒100-0005 東京都千代田区丸の内1-7-12 サピアタワー6F
東京ステーションコンファレンス (地図
JR東京駅新幹線専用改札口(日本橋口)から徒歩1分、八重洲北口改札口から2分


Semiconductor International 日本版 第17回テクニカルセミナー

『SiPプロセス革命~SiP、TSVでイニシアチブを握れ~』

【終了しました】
日時:
2008年5月22日(木)
場所:
〒100-0005 東京都千代田区丸の内1-7-12 サピアタワー6F
東京ステーションコンファレンス (地図
JR東京駅新幹線専用改札口(日本橋口)から徒歩1分、八重洲北口改札口から2分


Semiconductor International 日本版 第16回テクニカルセミナー

『低消費電力化に寄与する次世代トランジスタ形成技術』

【終了しました】
日時:
2008年4月11日(金)
場所:
〒108-0075 東京都港区港南1-9-36 アレア品川4F
東京コンファレンスセンター・品川 (地図
JR品川駅港南口(東口)より徒歩2分
春のフレッシュマンキャンペーン開始!
27歳以下の方は特別価格¥10,500!
SIJ読者向け特別価格も始めました!


Semiconductor International 日本版 第15回テクニカルセミナー
洗浄技術進化論、45nm量産から32/22nm開発へ~High-k/メタルゲート、ダメージフリーへのアプローチ~

『洗浄技術進化論、45nm量産から32/22nm開発へ
~High-k/メタルゲート、ダメージフリーへのアプローチ~』

【終了しました】
日時:
2008年2月22日(金)
場所:
〒100-0005 東京都千代田区丸の内1-7-12 サピアタワー6F
東京ステーションコンファレンス(地図
JR東京駅新幹線専用改札口(日本橋口)から徒歩1分、
八重洲北口改札口から2分


Semiconductor International 日本版 第14回テクニカルセミナー
『先端リソグラフィの開発と歩留まり向上へのチャレンジ』

『先端リソグラフィの開発と歩留まり向上へのチャレンジ』

【終了しました】
日時:
2007年11月13日(火)
場所:
〒100-0005 東京都千代田区丸の内1-7-12 サピアタワー6F
東京ステーションコンファレンス(地図
JR東京駅新幹線専用改札口(日本橋口)から徒歩1分、
八重洲北口改札口から2分


Semiconductor International 日本版 第12回テクニカルセミナー
MEMSパッケージング技術 黎明期から次なるステージへのテイクオフ

MEMSパッケージング技術
~黎明期から次なるステージへのテイクオフ~

【終了しました】
日時:
2007年9月26日(水)
場所:
東京都千代田区丸の内1-7-12 サピアタワー4F
東京ステーションコンファレンス(地図
JR東京駅新幹線専用改札口(日本橋口)から徒歩1分、
八重洲北口改札口から2分


Semiconductor International 日本版 第11回テクニカルセミナー
FEOL Solution 2007

「FEOL Solution 2007」

【終了しました】
日時:
2007年6月27日(水)
場所:
東京都港区港南1-9-36 アレア品川5F
東京コンファレンスセンター・品川(地図
JR品川駅港南口(東口)より徒歩2分


SI Japan RESOURCE CENTER

アドバンスドエナジージャパン株式会社
金属材料のマグネトロンスパッタリングにおけるアーク抑制
JPN-ArcSputmetal-270-01.pdf
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